Produkto identifikavimas
|
Prekė |
Specifikacija |
|
Produkto pavadinimas |
G4 vandenilio fluorido rūgštis (HF) |
|
Produkto kategorija |
Puslaidininkinė elektroninė šlapioji chemija |
|
Cheminis pavadinimas |
Vandenilio fluorido rūgštis |
|
Cheminė formulė |
HF |
|
CAS Nr. |
7664-39-3 |
|
Molekulinė masė |
20.01 |
|
JT numeris |
1790 |
|
Įvertinimas |
SEMI G4 Ultra{1}}Aukšto grynumo elektroninė klasė |
Produkto apžvalga
G4 hidrofluoro rūgštis yra didelio -grynumo fluoro- pagrindu pagaminta neorganinė rūgštis, skirta pažangiai puslaidininkinių plokštelių gamybai ir mikroelektronikos gamybai. Taikant kelių{4}}pakopų ultra-valymą, filtravimą be korozijos- ir 1000 klasės švaraus-patalpos užpildymo technologiją, gaminyje yra itin-mažai metalų pėdsakų, anijoninių priemaišų ir mikro{10}}dalelių, visiškai atitinkantis griežtus tarptautinius SEMI G4 standartus.
Kaip pagrindinė selektyvaus ėsdinimo ir valymo šlapioji cheminė medžiaga puslaidininkių priekiniuose{0}}galų procesuose, ji pasižymi puikiu silicio oksido sluoksnių ėsdinimo selektyvumu, o silicio substratams ir nitrido plėvelėms daroma minimali žala. Griežta priemaišų kontrolė veiksmingai išvengia mikro-užteršimo ir plokštelių defektų, todėl užtikrinamas didelis derlius ir ilgalaikis stabilumas pažangiems lustų gamybos procesams.
Išvaizda:Bespalvis, skaidrus ir skaidrus lakus skystis
Techninės specifikacijos (SEMI G4 standartas)
|
Bandomasis elementas |
Specifikacija |
|
HF tyrimas |
48,5–49,5 masės % |
|
Išvaizda |
Bespalvis ir skaidrus skaidrus skystis |
|
Spalva (APHA) |
Mažiau arba lygus 5 |
|
Tankis @ 20 laipsnių |
1,15 ~ 1,18 g/cm³ |
|
Garavimo likutis |
Mažiau nei arba lygus 30 ppb |
|
Atskiri metalų pėdsakai (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Mažiau arba lygus 10 ppb kiekvienas |
|
Fluzilicinė rūgštis (H₂SiF₆) |
Mažiau arba lygus 10 ppm |
|
Sulfatas (SO₄²⁻) |
Mažiau nei arba lygus 30 ppb |
|
Nitratas (NO₃⁻) |
Mažiau nei arba lygus 30 ppb |
|
Chloridas (Cl⁻) |
Mažiau nei arba lygus 30 ppb |
|
Dalelės Didesnės arba lygios 0,2 μm |
Mažiau arba lygus 100 vnt/ml |
Pastaba:Visi bandymo duomenys yra pagrįsti konkrečiu partijos{0}}COA (analizės sertifikatu).
Taikymas (puslaidininkinis šlapias procesas)
Vaflių natūralaus oksido pašalinimas:Selektyviai pašalinkite natūralų silicio oksido ir oksido likučius nuo silicio plokštelių paviršių, nepažeisdami silicio pagrindo, optimizuodami paviršiaus būklę nusodinimo, litografijos ir ėsdinimo procesams.
Tikslus selektyvus ofortas:Naudojamas smulkiam SiO₂ dielektrinių sluoksnių, vartų oksido sluoksnių ir plonų plėvelių sluoksnių ėsdinimui IC gamyboje, pasižymi dideliu ėsdinimo vienodumu ir puikiu proceso valdymu, kad būtų užtikrintas tikslus rašto perdavimas.
RCA šlapio valymo procesas:Naudojamas kaip pagrindinis modifikuotų RCA valymo tirpalų komponentas, pašalinantis mikro-daleles, jonines priemaišas ir organinius likučius nuo plokštelių paviršių, pagerinant bendrą plokštelių švarą.
Išplėstinis pakavimas ir MEMS procesas:Taikoma MEMS įrenginių, puslaidininkių jutiklių ir pažangių lustų pakavimo komponentų paviršiaus apdorojimui, mikro{0}ėsdymui ir priemaišų šalinimui, pritaikyta prie aukšto-tikslumo mikroelektronikos gamybos reikalavimų.
Pakavimo ir užpildymo standartas
Pakuotės tipas:Korozijai -atsparus PTFE-pamušalas / švarus- HDPE sandarus būgnas, speciali HF cheminė pakuotė
Bendra specifikacija:25 kg / 30 kg mažas būgnas, 1000 kg korozijai{3}}atsparus IBC krepšys
Užpildymo aplinka:1000 klasės švari patalpa, visiškai nerūdija{1}}gamybos ir užpildymo sistema, nulis antrinio užteršimo
Sandarinimo standartas:Speciali anti-laki ir nepraleidžianti{1}} sandari konstrukcija, griežtai apsaugo nuo lakiųjų nuostolių ir išorinio užteršimo
Laikymas ir galiojimo laikas
● Laikyti vėsioje, sausoje, vėdinamoje fluoro cheminių medžiagų sandėlyje, sandariai uždarytą, atokiai nuo tiesioginių saulės spindulių, aukštos temperatūros ir šilumos šaltinių.
● Griežtai izoliuokite nuo stiklo gaminių, šarminių medžiagų, oksidantų ir metalinių medžiagų, kad išvengtumėte cheminės korozijos ir netinkamos reakcijos.
● Uždrausti ilgalaikį{0}}laikymą atviroje vietoje, kad išvengtumėte nepastovios gedimo ir užteršimo dėl drėgmės sugėrimo.
● Galiojimo laikas:12 mėnesių standartinėmis sandariomis laikymo sąlygomis
Tvarkymas ir saugos atsargumo priemonės
● Vandenilio fluorido rūgštis yra labai ėsdinanti ir laki. Operatoriai turi dėvėti profesionalias pagalbines AAP: fluorui{1}}atsparias pirštines, visiškai uždarus cheminius akinius, korozijai{2}}atsparų prijuostę ir apsauginius drabužius.
● Visos operacijos turi būti atliekamos profesionaliuose garų gaubtuose; vengti įkvėpti lakiųjų dujų ir tiesioginio sąlyčio su oda, akimis ir gleivinėmis.
● Skiedimo ir dozavimo metu lėtai įpilkite rūgšties į dejonizuotą vandenį; niekada nepilkite vandens į koncentruotą vandenilio fluorido rūgštį, kad išvengtumėte purslų ir nelaimingų atsitikimų.
● Atsitiktinio sąlyčio ar nuotėkio atveju nedelsiant imkitės specialių pirmosios pagalbos{0}}priemonių ir griežtai laikykitės SDS neatidėliotino šalinimo gairių.
● Išsamią pavojingumo klasifikaciją, transportavimo taisykles ir pirmosios pagalbos{0}} procedūras rasite oficialiame SDS dokumente.
Kokybės užtikrinimas
Kiekviena G4 vandenilio fluorido rūgšties partija gaminama, išvaloma ir tikrinama griežtai laikantis SEMI G4 tarptautinių puslaidininkių standartų. Kiekviena siunta pridedama su partijos-konkretaus oficialaus COA. Visame gamybos ir užpildymo procese taikoma griežta švaraus-patalpos užterštumo kontrolė ir korozijai{6}}atsparus proceso valdymas, užtikrinantis itin-aukštą grynumą ir stabilią kokybę, atitinkančią griežtus pažangių puslaidininkių drėgnos gamybos procesų reikalavimus.
Populiarus Žymos: elektroniniai chemikalai g4 vandenilio fluoro rūgštis (puslaidininkinė šlapioji cheminė medžiaga), Kinijos elektroniniai chemikalai g4 vandenilio fluoro rūgštis (puslaidininkių šlapioji cheminė medžiaga) gamintojai, tiekėjai, gamykla

